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专利号:200810099160
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掩模坯料的制造方法及光掩模的制造方法

一种掩模坯料的制造方法,其是具有从具有在一方向上延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀剂液,同时,使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面在与所述一方向交叉的方向上相对扫描,并在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序的带有抗蚀剂膜的掩模坯料的制造方法,其特征在于,包括:在使基板的被涂敷面和所述涂敷喷嘴的前端部靠近,使所述抗蚀剂液与所述被涂敷面接触时,以将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔设为相对小的状态开始液体接触,然后,将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔扩大至相对大的状态,结束液体接触的工序。

掩模坯料的制造方法及光掩模的制造方法

一种掩模坯料的制造方法,其是具有抗蚀剂液涂敷工序的带有抗蚀剂膜的掩模坯料的制造方法,所述抗蚀剂液涂敷工序从具有在一方向上延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀剂液,同时使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面在与所述一方向交叉的方向上相对地扫描,并在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液,所述掩模坯料的制造方法的特征在于,    包括如下工序,即:在使基板的被涂敷面与所述涂敷喷嘴的前端部靠近,使所述抗蚀剂液与所述被涂敷面接触时,    在将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔设为相对小的状态下开始液体接触,然后,将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔扩大至相对大的状态,结束液体接触。
 


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专利号: 200810099160
申请日: 2008年5月14日
公开/公告日: 2008年11月19日
授权公告日:
申请人/专利权人: HOYA株式会社、HOYA电子马来西亚有限公司
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 浅川敬司、宫田凉司
代理人: 李贵亮
专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司(11021)
专利代理机构地址: 北京市海淀区海淀路80号中科大厦16层(100080)
专利类型: 发明
公开号: 101308325
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 日本2007年5月14日2007-127634
审批历史:
附图数: 5
页数: 15
权利要求项数: 3
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